उच्च शुद्धता वाले तांबे के स्पटरिंग लक्ष्य – वर्गाकार (4N-6N)

उच्च शुद्धता वाले तांबे के स्पटरिंग टारगेट – प्रक्रिया एवं गुणवत्ता आश्वासन विवरण

हमारे वर्गाकार कॉपर स्पटरिंग टारगेट उन्नत कोटिंग प्रक्रियाओं में विश्वसनीय पतली-फिल्म जमाव के लिए आवश्यक सटीक मानकों के अनुसार निर्मित किए जाते हैं।
उत्पादन प्रक्रिया में अत्यधिक शुद्धता और सामग्री की स्थिरता बनाए रखने के लिए वैक्यूम-आधारित नियंत्रित कार्यप्रणाली का पालन किया जाता है:
●कच्चे माल का चयन: प्रारंभिक सामग्री के रूप में केवल प्रमाणित इलेक्ट्रोलाइटिक कॉपर कैथोड (≥99.99%) का उपयोग किया जाता है।
● वैक्यूम मेल्टिंग: उच्च वैक्यूम या निष्क्रिय वातावरण के तहत इंडक्शन मेल्टिंग से ऑक्सीजन का अवशोषण और वाष्पशील अशुद्धियाँ कम हो जाती हैं।
● ढलाई और परिष्करण: नियंत्रित दिशात्मक ठोसकरण से समरूप संरचना और न्यूनतम पृथक्करण वाले पिंड प्राप्त होते हैं।
● गर्म प्रक्रिया: फोर्जिंग या हॉट प्रेसिंग से सैद्धांतिक घनत्व के लगभग बराबर घनत्व और परिष्कृत दानेदार संरचना प्राप्त होती है।
● परिशुद्ध मशीनिंग: सीएनसी मिलिंग और ग्राइंडिंग से सपाट, समानांतर सतहों के साथ सटीक वर्गाकार आयाम प्राप्त होते हैं।
●सतह परिष्करण: बहु-चरणीय पॉलिशिंग से दर्पण जैसी चिकनी सतह प्राप्त होती है जो क्लीनरूम उपयोग के लिए उपयुक्त है।
●वैकल्पिक बॉन्डिंग: थर्मल मैनेजमेंट के लिए मोलिब्डेनम/कॉपर बैकिंग प्लेट्स पर इंडियम या इलास्टोमर बॉन्डिंग उपलब्ध है।
●अंतिम सफाई और पैकेजिंग: अति शुद्ध पानी में अल्ट्रासोनिक सफाई, उसके बाद दोहरी परत वाले साफ बैग में वैक्यूम सीलिंग।

गुणवत्ता नियंत्रण प्रणाली

● कच्चे कैथोड लॉट से लेकर तैयार उत्पाद तक पूर्ण ट्रेसबिलिटी
● प्रत्येक खेप के साथ सामग्री प्रमाण पत्र और परीक्षण रिपोर्ट प्रदान की जाती हैं।
● तृतीय पक्ष सत्यापन (एसजीएस, बीवी, आदि) के लिए अभिलेखीय नमूनों को ≥3 वर्ष तक सुरक्षित रखना।
● महत्वपूर्ण मापदंडों का 100% निरीक्षण:
• शुद्धता और अशुद्धियाँ (जीडीएमएस/आईसीपी-एमएस विश्लेषण; सामान्य ऑक्सीजन <10 पीपीएम)
• घनत्व मापन (आर्किमिडीज विधि; ≥99.5%)
• कण का आकार और सूक्ष्म संरचना (धातुवैज्ञानिक परीक्षण)
• आयामी सटीकता (सीएमएम; समतलता ≤0.05 मिमी विशिष्ट)
• सतह की खुरदरापन और खामियां (प्रोफिलोमीटर + दृश्य निरीक्षण)
● आंतरिक विशिष्टताएँ ASTM F68 आवश्यकताओं से अधिक हैं। विशिष्ट गुणधर्म: तापीय चालकता >390 W/m·K, विद्युत प्रतिरोधकता <1.7 μΩ·cm, स्थिर स्पटरिंग दर और फिल्म गुणवत्ता।
● क्लीनरूम के अनुकूल प्रक्रियाएं और आईएसओ 9001:2015 प्रमाणित सुविधा यह सुनिश्चित करती है कि प्रत्येक लक्ष्य आधुनिक पीवीडी अनुप्रयोगों की कठिन आवश्यकताओं को पूरा करता है।